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반도체 소재분석을 위한 첨단 표면 분석 기술 워크샵

OI Academy | Workshop
반도체 소재분석을 위한 첨단 표면 분석 기술 워크샵

Location

POSTECH NINT

Date

05 November 2025

Venue

POSTECH NINT

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반도체 소재 및 공정 기술의 복잡도가 날로 증가함에 따라, 나노스케일의 정밀 물성 분석에 대한 수요가 그 어느 때보다 높아지고 있습니다. 특히 2D 소재, GaN, SiC, 등 차세대 반도체 연구에서는 비파괴적이면서도 고분해능 분석 장비의 중요성이 부각되고 있습니다.

이번 워크샵에서는 이러한 산업적 흐름에 부합하는 대형 웨이퍼 샘플 분석에 최적화된 Oxford Instruments의 고성능 AFM 및 Raman 시스템을 중심으로 소개하며, 실제 연구 현장에서의 적용 사례를 통해 최신 분석 기술의 활용 방향을 제시하고자 합니다.

특히, 오랜 기간 SiC 특성화 연구에 매진해오신 나노융합기술원의 이남석 박사와, 그래핀 기반 2D 소재 및 응용 전자소자 개발 전문기업 알파그래핀의 이상경 대표를 모시고, 실질적인 연구 경험과 현장에서 마주한 도전 과제들을 함께 나누는 귀한 시간을 마련하였습니다.

주요 내용

이번 워크숍은 분석 실무 중심의 인사이트와 최신 장비 기술 동향을 직접 체험할 수 있는 기회가 될 것으로 기대합니다. 반도체 분야에서 소재 개발, 공정 최적화, 결함 분석 등의 업무를 수행하시는 연구자 여러분의 많은 관심과 적극적인 참여를 바랍니다.

Time

Presentation Topic

Speaker

10:00 – 11:00

AFM을 활용한 SiC 분석

NINT 이남석 박사

11:00 – 12:00

Raman을 활용한 그래핀 기반 2D 소재개발 연구

알파그래핀 이상경 대표

12:00 – 13:00

점심식사

-

13:00 – 14:30

Jupiter AFM 소개 및 데모시연

옥스포드 이태성 과장

14:30 – 16:00

alpha300 Raman 소개 및 데모시연

옥스포드 오심건 과장

Presented by

Daniel Simgeon Oh - Imaging Analysis, Oxford Instruments
Ph.D., Application Scientist
Dr. Taesung LEE - Oxford Instruments, Asylum Research Korea
Application Scientist
Sang Kyung Lee - 대표이사, 알파그래핀 주식회사 (Alpha Graphene inc.)
CEO
Nam-Suk LEE - 포항공과대학교 나노융합기술원
연구교수

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